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從電鍍過程可以看出，改進鍍層質量可以從兩個方面人手：一、調整電鍍溶液；二、改進電鍍電源。現實中，廣泛采用了改進電鍍電源的方法。關于這點，可以從電鍍電源的發展演變過程中看出。

電鍍電源經歷了四個發展階段：

第一階段：直流發電機階段這種電源耗能大、效率低、噪聲大。已經被淘汰。

第二階段：硅整流階段是直流發電機的換代產品，技術十分成熟，但效率低，體積大，控制不方便。目前，仍有許多企業使用這種電鍍電源。

第三階段：可控硅整流階段是目前替代硅整流電源的主流電源，具有效率高、體積小、調控方便等特點。隨著核心器件——可控硅技術的成熟與發展。該電源技術日趨成熟，已獲得廣泛應用。

第四階段：晶體管開關電源即脈沖電源階段脈沖電鍍電源是當今最為先進的電鍍電源，它的出現是電鍍電源的一次革命。這種電源具有體積小、效率高、性能優越、紋波系數穩定。而且不易受輸出電流影響等特點。脈沖電鍍電源是發展的方向，現已開始在企業中廣泛使用。